在现在的科技时代,芯片关于电子科技类产品来说很重要,就像“心脏”相同 。而制作芯片有必要用到一个要害设备,便是光刻机。我们或许都知道光刻机很要害,可它研制起来究竟要花多少钱,或许没多少人清楚。今日我们就来看看光刻机研制背面的本钱状况。
给我们讲个事儿,中微公司的董事长尹志尧,在芯片制作这方面很有话语权。他说过,光刻机研制的本钱可不是个小数目,高得很离谱。为啥这么说呢?
就说荷兰的ASML公司,这在光刻机范畴是数一数二的大公司。ASML为了研制下一代极紫外光刻机,前前后后花了20年修长。在这20年里,投入的资金有200亿欧元。200亿欧元换算成人民币差不多是1500亿。1500亿人民币,这但是一大笔钱!这么多钱能做许多事,却都投到了光刻机研制里。
并且,光刻机的价格也特别贵。传统的Low(0.33)NA EUV光刻机,一台大约要2500亿韩元,换算成人民币差不多是13.17亿元。更高档的High(0.55)NA EUV光刻机,单价现已涨到4000 - 5000亿韩元了,也便是人民币21.07 - 26.34亿元。传闻今后要推出的Hyper(0.75)NA EUV光刻机,价格或许会打破一万亿韩元,折合成人民币大约52.67亿元。就这么一台设备,价格贵得让人吃惊。
再看看我们国内的中微公司,董事长尹志尧说,他们花了差不多15、16年,投入20亿人民币,研制出了等离子体刻蚀机。尽管这和光刻机研制本钱比起来少许多,但20亿人民币也不是个小数目。
还有俄罗斯,他们说研制出了一种7nm光刻机,用的是无掩模纳米光刻技能,本钱大约是500万卢布,换算过来差不多36.74万人民币,并且他们还说这种光刻机功率比ASML的EUV光刻机高两倍。不过这和前面说到的研制本钱比起来,不同很大,究竟怎么样还得再调查调查。
从这些数据能看出,光刻机研制真的很烧钱。研制需求很多的修长、人力、物力和财力投入。每次技能有打破,背面都是很多资金在支撑。
我们国家在芯片制作和光刻机研制方面也一直在尽力。尽管现在有不少困难,但只需坚持投入、不断研制,今后必定能在这样的范畴获得更大的打破,让我们在全球芯片制作市场上更存在竞争力,不再受他人约束。
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