在全球科技竞赛日趋激烈的当下,我国光刻技能的开展正迎来历史性的转折点。这不只是科学技能进步的标志,更是咱们国家科技自主发明新式事物的才能提高的有力证明。
近期,我国在光刻机范畴获得的成果令人瞩目。上海微电子公司成功推出28nm光刻机,为国内半导体工业的开展注入了新动力。
哈尔滨工业大学在高速超精细激光干涉仪技能上的打破,为14纳米光刻机的研制供给了要害技能上的支撑。这些开展不只展示了我国在高端制作范畴的技能实力,也预示着我国在全球半导体工业链中的位置将日益重要。
光刻机作为半导体制作中的要害设备,其制作难度极高,全球可以独立出产这一设备的国家寥寥无几。我国在短短十几年内,从90纳米技能跨越到28纳米,并向14纳米、7纳米技能建议应战,这一跨越式开展令人惊叹。
跟着技能的不断打破,我国光刻机工业的开展的潜在才能巨大,估计将带动上万亿元的工业价值。把握光刻机核心技能的公司将迎来巨大的开展机会。
商场上,真实把握光刻机核心技能的上市公司并不多,通过深入研究和整理,发现三家,
榜首家;同飞股份凭仗其液体恒温设备在半导体制作范畴的广泛应用,特别是在光刻机温度操控上的要害作用,成为职业的佼佼者。
第二家苏大维格为上海微电子供给了投影式光刻机所需的定位光栅尺部件,显现了其在光刻机部件供给上的重要位置。
最终一家更具潜力,一家中科院旗下的公司,不只把握了光刻机、光电测控仪器设备及光学材料的要害技能,还获得了主力资金37.81亿元的重仓出资。随商场风口的到来,有望数倍增加!详细就不在这说了,为防止打扰主力布局, 想知晓的朋友莱哦松众浩:豪涨,深知小散不易,愿与我们共前行!
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